Наноколодцы и новый метод литографии
24.01.2011

Наноколодцы и новый метод литографии


Возврат к списку

Вкратце рассмотрим суть метода, предложенного учеными. На кремниевую подложку наносились коллоидные частицы амидин-модифицированного полистирольного «латекса» (APSL), после чего система была обработана в автоклаве при температуре 1200oС в воде, в результате чего функциональные группы, находящиеся на коллоидных частицах, подверглись гидролизу с образованием гидроксида аммония. В свою очередь, образовавшийся гидроксид аммония в жестких условиях гидротермальной обработки подтравливает кремниевую подложку в строго определенных областях контакта с частицами.

Форма образующихся «наноколодцев» зависит от ориентации подложки, поскольку скорость травления кремния в различных направлениях неодинакова.

Для того, чтобы понять механизм образования наноколодцев, авторы статьи варьировали время нагревания в автоклаве (рис.2). Легко заметить, что травление преимущественно идет под нанесенными коллоидными наночастицами, что обусловлено высокой скоростью диффузии травящих гидроксид-ионов (коэффициент диффузии гидроксил иона 2Х10-8 м2/с при 1200oС). По этой причине концентрация гидроксид иона за пределами периметра, ограниченного коллоидными наночастицами, крайне мала, и именно это обстоятельство позволяет ученым достаточно строго контролировать размер образующихся наноколодцев.

Результаты исследований опубликованы в статье:
Neetu Chaturvedi, Erik Hsiao, Darrell Velegol, and Seong H. Kim Maskless Fabrication of Nanowells Using Chemically Reactive Colloids. – Nano Lett., Article ASAP; DOI: 10.1021/nl1037984; Publication Date (Web): January 4, 2011.

Источник(и):
nanometer.ru

Возврат к списку